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PVDF基阴离子交换膜的制备与性能表征被引量：2: 2012年; 为了制备一种性能优良的含氟阴离子交换膜,选择聚偏氟乙烯(PVDF)膜为基膜,依次经过碱处理、化学接枝氯甲基苯乙烯(VBC)及季铵化反应得到PVDF基阴离子交换膜.采用电化学、化学、红外光谱(IR)和热失重(TGA)分析方法分别对膜面电阻、阴离子选择透过率、离子交换容量(IEC)、膜基团变化和热稳定性进行分析.结果表明:PVDF基阴离子交换膜具有较好的综合性能,面电阻为1.4Ω.cm2,阴离子选择透过率为93.2%,IEC为1.17 mmol.g-1干膜.PVDF基膜经各步处理后,依次生成含双键碱处理PVDF膜、PVDF-g-VBC膜和季铵盐型PVDF基阴离子交换膜,各处理膜热稳定性依次下降,PVDF基阴离子交换膜使用温度不高于130℃.该方法成功制备了具有较好性能的含氟PVDF基阴离子交换膜.; 田波刘倩李三喜张爱玲李海啸; 关键词：阴离子交换膜化学接枝碱处理季铵化面电阻

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刘倩