李金龙
- 作品数：5 被引量：13H指数：2
- 供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程理学更多>>
- 反提拉Sol-Gel法制备PZT薄膜及热处理工艺对薄膜性能结构影响的研究被引量：7
- 2004年
- 通过醋酸铅、硝酸锆、钛酸丁酯分别制备独立稳定的前驱单体 ,采用Sol Gel反提拉涂膜技术在基片Pt/Ti/SiO2 /Si上制备PZT铁电薄膜。本文讨论了制备工艺对薄膜质量的影响 ,比较了在不同的退火速率 ,退火温度及退火气氛工艺中 ,制备的PZT铁电薄膜结构、性能的差异 ,并对其形成原因进行了分析。
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- 关键词：PZT铁电薄膜SOL-GEL法钛酸丁酯退火温度
- 退火温度对MnZn铁氧体薄膜性能的影响被引量：1
- 2011年
- 采用射频磁控溅射法在Si(111)基片上沉积了MnZn铁氧体薄膜,用X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的物相结构,用振动样品磁强计(VSM)测量薄膜面内饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc。结果表明:随着退火温度的升高,MnZn铁氧体薄膜的X射线衍射峰强度逐渐增强,且主峰逐渐由(311)峰变为(222)峰,沿(111)面取向生长明显。薄膜的饱和磁化强度和矫顽力均随着退火温度的升高而升高。
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- 关键词：射频磁控溅射相结构饱和磁化强度矫顽力
- 石墨烯/二氧化锰/聚3,4-乙烯二氧噻吩三相复合电极的制备及电化学性能被引量：5
- 2014年
- 采用水性溶液为电解液,在石墨烯表面用恒电位法依次制备二氧化锰和聚3,4-乙烯二氧噻吩层,得到石墨烯/二氧化锰/聚3,4-乙烯二氧噻吩三相复合电极。扫描电镜表征三相复合电极的形貌特征及复合结构;通过恒流充放电、循环伏安、交流阻抗等电化学测试方法研究三相复合电极的电化学性能。结果表明,石墨烯呈现独有的褶皱状结构,二氧化锰由不规则的纳米片交织而成,聚3,4-乙烯二氧噻吩由纳米范围粒子聚合而成,三相电极呈现层状复合结构;在1.0A/g的充放电电流下得到的比容值为165F/g,经过500次充放电循环后,容量保持率达到80%,具有较好的稳定性,同时,该三相复合电极还表现出很好的充放电可逆性和阻抗性能。
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- 关键词：石墨烯二氧化锰恒电位电化学电容器
- NiFe_2O_4铁氧体薄膜溅射产额的蒙特卡罗模拟
- 2011年
- 通过蒙特卡罗方法,运用SRIM程序,模拟了Ar+轰击NiFe2O4铁氧体靶材的过程,研究了不同入射能量及角度Ar+轰击NiFe2O4靶材引起的溅射产额。结果表明:离子垂直入射时NiFe2O4中各元素的溅射产额和出射原子能量都随入射离子能量的增大而增大;各元素产额的比率在低能离子入射时,变化较大,但能在较大的入射离子能量范围内保持相对稳定的值;离子斜入射时,随着入射离子角度增加,各元素的溅射产额先增大,后减小,并在77°左右达到最大值;离子入射角度变化时,并不严重影响各元素之间产额的比率,且组分比率能在较大的离子入射角度范围内保持相对稳定的值。
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- 关键词：蒙特卡罗方法
- 薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响
- 2012年
- 采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
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- 关键词：射频磁控溅射薄膜厚度磁性能
