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赵帅

作品数：7 被引量：1H指数：1
供职机构：河北工业大学更多>>
相关领域：电子电信环境科学与工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 3篇教室
  • 2篇电化学处理
  • 2篇电源
  • 2篇直流
  • 2篇直流电
  • 2篇直流电源
  • 2篇智能调控
  • 2篇实况
  • 2篇推拉窗
  • 2篇抛光
  • 2篇抛光工艺
  • 2篇物理环境
  • 2篇晶体
  • 2篇蓝宝
  • 2篇蓝宝石
  • 2篇蓝宝石晶体
  • 2篇教室环境
  • 2篇硅酸
  • 2篇硅酸盐
  • 2篇硅酸盐材料

机构

  • 7篇河北工业大学

作者

  • 7篇赵帅
  • 4篇张保国
  • 3篇孙建广
  • 3篇张鹏
  • 3篇冯浩
  • 3篇周朝旭
  • 2篇王如

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2016
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
蓝宝石晶体抛光废液的处理方法
本发明蓝宝石晶体抛光废液的处理方法,涉及废水的处理，步骤是：设置电化学处理装置，主要包括一个化学处理槽、阳极、阴极和直流电源；调节蓝宝石晶体抛光废液的初始pH值为6～12；电化学处理，控制直流电源电压在10～40V范围内...
张保国潘柏臣赵帅王如周朝旭
一种具有石墨烯涂层的LED用散热器
本实用新型公开一种具有石墨烯涂层的LED用散热器，包括散热基座和散热鳞片，其特征在于在散热基座的内表面和散热鳞片的外表面均设有石墨烯涂层，所述石墨烯涂层采用石墨烯导热浆料；所述石墨烯涂层的厚度为1～30μm。该散热器在散...
张保国赵帅于璇张劭春张春梅
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一种教室环境智能调控系统
本发明公开了一种教室环境智能调控系统，其特征在于该系统包括摄像头、温度传感器、湿度传感器、二氧化碳传感器、计算机、单片机、电灯、推拉窗、推杆电机、空调、终端、无线通讯模块、直流电机、窗帘、话筒、音响、显示屏、滑轨和供电模...
张鹏杨通达冯浩王子真王一桐赵帅林一阳程宏鹏孙建广
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蓝宝石晶体抛光废液的处理方法
本发明蓝宝石晶体抛光废液的处理方法,涉及废水的处理，步骤是：设置电化学处理装置，主要包括一个化学处理槽、阳极、阴极和直流电源；调节蓝宝石晶体抛光废液的初始pH值为6～12；电化学处理，控制直流电源电压在10～40V范围内...
张保国潘柏臣赵帅王如周朝旭
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一种教室环境智能调控系统
本实用新型公开了一种教室环境智能调控系统，其特征在于该系统包括摄像头、温度传感器、湿度传感器、二氧化碳传感器、计算机、单片机、电灯、推拉窗、推杆电机、空调、终端、无线通讯模块、直流电机、窗帘、话筒、音响、显示屏、滑轨和供...
张鹏杨通达冯浩王子真王一桐赵帅林一阳程宏鹏孙建广
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一种教室电器的节能控制系统
本实用新型公开了一种教室电器的节能控制系统，包括电灯、风扇、控制开关和供电模块；其特征在于该系统还包括摄像头、计算机、单片机控制模块、继电器、无线通讯模块、移动终端和温度传感器；所述摄像头分别安装在教室前端天花板一侧和教...
张鹏杨通达冯浩王子真林一阳程宏鹏王一桐赵帅孙建广
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用于最新技术节点Ge和SiGe的CMP技术研究进展被引量：1
2016年
对锗和锗化硅材料应用及发展前景进行了简单介绍。主要论述了在14 nm技术节点以下应用于pMOS晶体管沟道材料的锗的化学机械抛光(CMP)技术的发展现状,如抛光液组分的优化以及工艺参数的革新,经过CMP后,Ge的表面粗糙度可以有效降低到0.175 nm(10μm×10μm)。此外对在最新技术节点应用于CMOS以及缓冲层的SiGe材料的CMP技术发展现状进行了总结分析,通过浅沟道隔离技术以及使用优化后的抛光液对Si_(0.5)Ge_(0.5)沟道材料进行化学机械抛光处理后的表面粗糙度为0.09 nm(1μm×1μm)。最后,对目前国内外Ge和SiGe的CMP技术发展现状进行了总结,指出当前CMP技术存在的问题并对其未来发展方向进行了展望。
潘柏臣张保国赵帅周朝旭
关键词：锗锗化硅
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