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沈赟靓

作品数:5 被引量:6H指数:2
供职机构:上海交通大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信环境科学与工程文化科学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 2篇微纳加工
  • 2篇半导体
  • 1篇带材
  • 1篇电阻率
  • 1篇形貌
  • 1篇实验室
  • 1篇特种气体
  • 1篇铜薄膜
  • 1篇气体
  • 1篇微桥结构
  • 1篇危化品
  • 1篇临界电流
  • 1篇开放管理
  • 1篇激光
  • 1篇激光制备
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇功率
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻工艺

机构

  • 5篇上海交通大学

作者

  • 5篇沈赟靓
  • 4篇王英
  • 4篇付学成
  • 2篇程秀兰
  • 1篇马玲
  • 1篇李进喜
  • 1篇王凤丹
  • 1篇马玲
  • 1篇李进喜
  • 1篇刘民

传媒

  • 2篇实验技术与管...
  • 1篇电子工艺技术
  • 1篇低温与超导
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2021
  • 2篇2020
  • 1篇2018
  • 1篇2016
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
开放式半导体微纳加工平台的开放管理模式探讨被引量:2
2020年
大型仪器设备共享是节约社会资源的重要手段。该文以上海交通大学先进电子材料与器件校级平台为基础,从实验室环境、设备工艺、物资需求、研究方向、人员等方面系统分析和总结了开放式半导体微纳加工平台的特点,并对实验平台开放所面临的挑战进行了探讨,为开放式半导体微纳加工平台的建设和管理提供借鉴和参考。
王英程秀兰马玲付学成瞿敏妮沈赟靓
光敏BCB光刻图形化工艺研究被引量:1
2016年
光敏BCB-苯并环丁烯(benzocyclobutene)具有低介电常数、低介电损耗、低吸湿率、高热稳定性、良好的化学稳定性以及高薄膜平整度和低固化温度等优良的加工性能,在现代微电子制造封装工艺中有非常重要的应用,常用作各类器件钝化防护和层间介电等材料。通常在应用过程中,BCB层上都要形成微细的连接通孔或连接窗口图形。但由于BCB胶对温度非常敏感,且应力因素影响明显,光刻工艺条件比较临界,从而限制了BCB胶的发展和应用,因此优化BCB光刻工艺条件具有重要的实际意义和应用前景。通过控制光刻过程中前烘、光刻及显影等条件,研究了在硅基底表面BCB的成孔工艺。结果表明通过稳定显影条件,适当地提高前烘温度,延长前烘时间和曝光时间,对BCB胶形成图形都有一定的改善。实验中采用矩阵法设计了多组交叉实验,找出最佳前烘及曝光工艺,形成了图形结构良好的光刻图形。
王凤丹王英刘民付学成李进喜沈赟靓马玲
关键词:光刻工艺形貌
开放式半导体微纳加工实验室危化品管理体系的规范化建设
2020年
开放式半导体微纳加工实验室具有工艺种类多、工艺复杂、工艺流程长等特点,在工艺过程中所涉及的化学品及特种气体种类多、易燃易爆试剂用量大、危险性高等,因此,对这类实验室的安全管理提出了更高的要求。根据这类实验室的特点,该文针对开放式微纳加工实验室的危化品规范化管理进行了探讨,为实验室安全运行打下了很好的基础。
王英程秀兰吴炜文付学成韩永来沈赟靓张明军
关键词:特种气体
采用飞秒激光制备REBCO超导带材微桥结构的研究
2021年
采用飞秒激光器制备了基于第二代高温超导带材(REBCO)的微桥结构。激光共聚焦显微镜以及扫描电镜进行表征,结果表明微桥刻蚀区超导层被完全刻蚀,可以有效约束电流的通路。此外,开展了液氮温区自场条件下临界电流测试,临界电流成比例缩小,n值稍有减少。研究结果表明,采用飞秒激光器制备高质量高鲁棒性的微桥,可以极大的提高效率,为后续进一步在极端条件下测试具有较高载流能力的高温超导带材样品奠定基础。
权雪玲黄胜利武悦沈赟靓沈赟靓
关键词:临界电流
负偏压功率对溅射沉积钛、铜薄膜电阻的影响被引量:3
2018年
为了研究负偏压功率对直流溅射沉积铜、钛两种金属薄膜电阻率的影响,在采用相同的工艺条件溅射沉积两种金属薄膜的同时分别加上0、50、150 W的负偏压功率,发现随着偏压功率由0增加到150 W,制备的钛薄膜厚度下降了25%,电阻率下降到原来的18%,而对于铜薄膜随着偏压功率由0增加150 W,厚度下降了5%,电阻率却增加到原来的4倍。用原子力显微镜和X射线衍射仪器分析了不同负偏压功率下制备的两种金属薄膜的表面粗糙度和两种金属薄膜的结晶情况,并用Fuchs-Sondheimer理论和Mayadas-Shatzkes理论解释偏压功率引起两种金属电阻变化的原因。这为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域沉积不同结构及电阻的金属薄膜提供参考。
付学成王英沈赟靓李进喜权雪玲
关键词:磁控溅射铜薄膜电阻率
共1页<1>
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