赵欣
- 作品数：2 被引量：4H指数：1
- 供职机构：河北工业大学电子信息工程学院更多>>
- 发文基金：河北省自然科学基金国家科技重大专项天津市自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- pH调节剂对蓝宝石衬底CMP的影响被引量：4
- 2016年
- 化学机械抛光(CMP)是固体物质表面超精密加工的重要方法,抛光液的p H值是影响蓝宝石衬底CMP过程中化学反应快慢及材料去除速率和表面粗糙度的重要因素之一。重点研究了不同p H调节剂对蓝宝石衬底去除速率以及表面状态的影响。实验中分别选用了3种p H调节剂:有机碱(大分子螯合剂)、无机碱(KOH)和混合碱,并在相同工艺条件下对蓝宝石衬底进行CMP。实验结果表明:在抛光液p H值为10时,有机碱作为p H调节剂,去除速率为2.6μm/h,表面粗糙度为0.493 nm;无机碱作为p H调节剂时去除速率达到2.9μm/h,表面粗糙度0.336 nm;在混合碱中,螯合剂与固定浓度的KOH比为1∶20(体积比)时,速率为3.23μm/h,表面粗糙度为0.226 nm。用混合碱作为p H调节剂可有效实现蓝宝石衬底的高速去除速率及低表面粗糙度。
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- 关键词：蓝宝石去除速率混合碱
- 光学石英玻璃CMP抛光液的研究
- 2016年
- 针对光学石英玻璃在表面化学机械抛光(CMP)过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题,提出了采用低抛光压力和低磨料体积分数的CMP方法。机械作用是引起表面及亚表面损伤的关键因素,低抛光压力可以有效降低抛光过程中施于晶体表面的机械作用,抛光液中低磨料体积分数既可降低一定的机械作用又可降低由于高磨料体积分数引起的表面沾污。在降低机械作用的基础上,为获得较高的去除速率和较佳的表面质量,选用大分子胺碱作为pH调节剂,以增加质量传递作用。通过大量实验证实,粒径60 nm的硅溶胶磨料体积分数为8%、活性剂体积分数为5%、螯合剂体积分数为1%、pH值为9和抛光压力为1 psi(1 psi=6 895 Pa)的条件下,可获得较高的去除速率和较佳的表面质量,此时的去除速率为52.8 nm/min、表面粗糙度为0.126 nm。此结果可对业内此类材料的超精密加工提供一定的参考。
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- 关键词：石英玻璃去除速率表面粗糙度
