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文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 2篇端面
  • 2篇端面磨削
  • 2篇抛光
  • 2篇柱面
  • 2篇精磨
  • 2篇尺寸
  • 2篇尺寸控制
  • 2篇粗磨
  • 1篇氧缺陷
  • 1篇石英玻璃
  • 1篇羟基
  • 1篇键角
  • 1篇光学
  • 1篇光学均匀性

机构

  • 3篇中国建筑材料...

作者

  • 3篇宋学富
  • 3篇张晓强
  • 3篇杜秀蓉
  • 3篇孙元成
  • 3篇钟利强
  • 2篇王慧

传媒

  • 1篇硅酸盐通报

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2018
  • 1篇2016
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
一种平凸柱面镜的加工方法
本发明公开了一种平凸柱面镜的加工方法,包括以下步骤:将玻璃毛坯料粗磨成圆柱,再对其柱面依次进行精磨和抛光,使抛光后的圆柱半径在平凸柱面镜的半径要求范围内;将抛光后的圆柱与平面模具浇铸成盘,沿圆柱轴向方向将圆柱多余柱面磨削...
张晓强宋学富孙元成杜秀蓉王慧钟利强焦洋斌
文献传递
Ⅳ类石英玻璃光学均匀性影响因素研究
2023年
Ⅳ类石英玻璃是一种重要的特种玻璃材料,在光学探测、惯性导航等领域内具有重要作用。光学均匀性是表征光学玻璃结构均匀性的一种重要方法,Ⅳ类石英玻璃的光学均匀性与硅氧网络结构分布一致性密切相关。本文通过四步法光学均匀性测试、紫外-可见-近红外光谱、红外反射光谱等方法,研究了羟基、金属杂质及氧缺陷的径向分布特点和硅氧键键角的径向变化,采用相关性分析研究了各影响因素对样品光学均匀性的影响。结果表明:表示玻璃光学均匀性的波前畸变t_(0)Δn沿玻璃半径先降低后升高;羟基的径向分布整体上与t_(0)Δn的径向变化相反,200 nm处透过率径向变化、硅氧键键角径向变化与t_(0)Δn的径向变化相近;羟基对Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的影响较小,金属杂质、氧缺陷及硅氧键键角的径向变化是影响Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的主要因素。
袁晶宋学富孙元成杜秀蓉张晓强钟利强
关键词:光学均匀性羟基氧缺陷
一种平凸柱面镜的加工方法
本发明公开了一种平凸柱面镜的加工方法,包括以下步骤:将玻璃毛坯料粗磨成圆柱,再对其柱面依次进行精磨和抛光,使抛光后的圆柱半径在平凸柱面镜的半径要求范围内;将抛光后的圆柱与平面模具浇铸成盘,沿圆柱轴向方向将圆柱多余柱面磨削...
张晓强宋学富孙元成杜秀蓉王慧钟利强焦洋斌
文献传递
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