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王辰伟
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H指数:6
供职机构:
河北工业大学
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合作作者
刘玉岭
河北工业大学电子信息工程学院
牛新环
河北工业大学电子信息工程学院
高宝红
河北工业大学电子信息工程学院
王胜利
河北工业大学电子信息工程学院
高娇娇
河北工业大学电子信息工程学院
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刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
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高宝红
供职机构:河北工业大学
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王胜利
供职机构:河北工业大学
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高娇娇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
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闫辰奇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 去除速率 碱性抛光液
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何彦刚
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 阻挡层 化学机械抛光 抛光表面 水溶液聚合
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孙鸣
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
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檀柏梅
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
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周建伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
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