史小龙
- 作品数：7 被引量：8H指数：2
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- 相关领域：理学轻工技术与工程更多>>
- MgO相分离对Mg_xZn_(1-x)O纳米粉体结构和光学性能的影响
- 2012年
- 采用溶胶-凝胶法制备了MgxZn1-xO(x=0,0.1,0.2,0.3,0.4,0.5)纳米粉体。X射线衍射谱表明:在较高的温度(850℃以上)下退火,MgxZn1-xO纳米粉体从单一的纤锌矿结构相中分离出MgO相的掺杂浓度x约为0.13,且随着x的增加,MgO相含量呈指数型增长。室温光致发光谱显示:MgO相分离对紫外与绿光发射的相对强度有直接的影响,随着MgO相分离的出现,紫外发光峰蓝移,并随着MgO相的增加,紫外发光峰的强度受抑,绿光发光峰变强。样品的室温透过率显示:MgxZn1-xO的禁带宽度在x=0.1时达到最大值并受MgO相分离的影响而减小。
- 谢海燕赵小如段利兵白晓军刘金铭陈帅史小龙
- 关键词：溶胶-凝胶法光学性能
- 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法
- 本发明涉及一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法，其特征在于步骤如下：在室温下，将衬底用洗洁精溶液浸泡、用去离子水浸泡、采用V<Sub>水</Sub>：V<Sub>盐酸</Sub>=n：1的稀盐酸溶液浸泡、采用丙酮浸泡...
- 赵小如关蒙萌史小龙孙慧楠
- 文献传递
- Sn掺杂对ZnO薄膜结构和光电性能的影响被引量：4
- 2012年
- 采用溶胶-凝胶浸渍提拉法在玻璃衬底上制备了Sn掺杂ZnO(SZO)薄膜。通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)研究了Sn掺杂对薄膜表面形貌和微结构的影响。XRD结果表明,所有ZnO薄膜样品都存在(002)择优取向。SEM结果表明随着掺杂浓度的增加,薄膜表面由颗粒向纳米棒转变。电学结果显示掺杂浓度为3at%时,电学性能最好,最低电阻率为6.9×10-2Ω.cm。室温光致发光谱(PL)显示所有的SZO薄膜样品在(325 nm光激发下)380 nm和398 nm两处都有发光峰,随着掺杂浓度的增大,398 nm处的发光强度先增大后减小,然后再增大;380nm处的发光强度始终增大,这些现象与薄膜的表面结构的变化有关。
- 史小龙赵小如孙慧楠段利兵刘金铭陈安琪
- 关键词：溶胶凝胶晶体结构光电性能
- 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法
- 本发明涉及一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法，其特征在于步骤如下：在室温下，将衬底用洗洁精溶液浸泡、用去离子水浸泡、采用V<Sub>水</Sub>：V<Sub>盐酸</Sub>=n：1的稀盐酸溶液浸泡、采用丙酮浸泡...
- 赵小如关蒙萌史小龙孙慧楠
- 一种调节氧化物半导体基质中Eu<Sup>3+</Sup>发光强度的方法
- 本发明涉及一种调节氧化物半导体基质中Eu<Sup>3+</Sup>发光强度的方法，其特征在于：先制备TiO<Sub>2</Sub>溶胶和SiO<Sub>2</Sub>溶胶，将TiO<Sub>2</Sub>溶胶和SiO<S...
- 赵小如孙慧楠史小龙关蒙萌
- 文献传递
- 退火气氛和镧掺杂浓度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响被引量：5
- 2013年
- 采用溶胶-凝胶浸渍提拉法在玻璃衬底上制备Zn1-xLaxO（x=0～0．04）（LZO）薄膜，分别在空气、氮气和氩气条件下进行退火，探讨了不同退火气氛和不同镧掺杂浓度对其结构和光学性能的影响。XRD和SEM结果表明：氩气退火条件下ZnO的晶粒尺寸比空气退火条件下和氮气退火条件下的晶粒尺寸略小，且ZnO晶粒的尺寸随着镧掺杂浓度的增加而减小。薄膜光致发光（PL）测量表明：紫光发光带中心在氩气下退火相对于空气下退火存在略微的蓝移，而在氮气下退火则相反；ZnO紫光发光带的位置随着镧掺杂浓度的增加先红移而后蓝移。禁带宽度在镧掺杂量为2％时达到最小值，说明镧可以有效地调节ZnO的禁带宽度。
- 段文芳赵小如段利兵白晓军史小龙朱宇瑾孙慧楠
- 关键词：溶胶-凝胶法ZNO薄膜镧掺杂禁带宽度
- 能够调节发光强度的氧化锌和氧化钛复合半导体薄膜的制备方法
- 本发明涉及一种能够调节发光强度的氧化锌和氧化钛复合半导体薄膜的制备方法，其特征在于：首先制备ZnO溶胶和TiO<Sub>2</Sub>溶胶，将两种溶胶进行混合，制备TiO<Sub>2</Sub>~ZnO复合溶胶；两种溶胶...
- 赵小如史小龙孙慧楠曹萌萌
- 文献传递
