您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇碳化硅
  • 2篇籽晶
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铝
  • 1篇形貌分析
  • 1篇晶向
  • 1篇PVT

机构

  • 2篇中国电子科技...

作者

  • 2篇王香泉
  • 2篇齐海涛
  • 2篇王利杰
  • 2篇洪颖
  • 2篇郝建民
  • 2篇张志欣

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇硅酸盐学报

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
物理气相传输法制备大面积AlN单晶被引量:13
2013年
以自制[0001]正晶向SiC衬底为籽晶,采用物理气相传输法制备了直径42 mm、厚度700μm的AlN单晶层。介绍了晶体生长系统和生长工艺条件;分析了样品的相组成和形貌。结果表明:样品中SiC–AlN界面明晰,AlN单晶层透明、形貌平整,具有微台阶表面特征。Raman光谱和X射线衍射测试显示该层结晶性好,无杂质相,为典型的2H单晶晶型,生长面为标准的c面正晶向。
齐海涛洪颖王香泉王利杰张志欣郝建民
偏晶向SiC籽晶上生长的AlN单晶被引量:2
2013年
采用物理气相传输法在自制[0001]偏8°晶向6H-SiC衬底上制备了直径42 mm、厚度320μm的连续AlN单晶层,c轴方向生长速率为32μm/h。AlN单晶层具有明显鱼鳞状宏台阶流生长表面特征。裂纹完全单向平行分布,且与台阶走向一致,其成因与台阶对热应力的吸收作用有关。未发现明显的穿线缺陷。发现AlN-SiC界面存在双角锥空腔,其起因是生长初期界面处未被AlN完全密实覆盖的微小区域,在生长过程中因内部温差不断发生的升华和凝华的自我调制过程。喇曼光谱和X射线衍射测试显示该层结晶性较好,(0002)面X射线摇摆曲线半高宽为76 arcsec,喇曼光谱E1(TO)模的半高宽为7.5 cm-1。
齐海涛王利杰洪颖王香泉张志欣郝建民
关键词:氮化铝形貌分析
共1页<1>
聚类工具0