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郭振宇

作品数：14 被引量：0H指数：0
供职机构：清华大学更多>>
相关领域：理学自动化与计算机技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇专利
  • 3篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 4篇晶圆
  • 3篇刷洗
  • 3篇装载装置
  • 3篇组件
  • 3篇干燥装置
  • 2篇断开
  • 2篇通断
  • 2篇通讯模块
  • 2篇抛光
  • 2篇抛光工艺
  • 2篇平面反射镜
  • 2篇主控
  • 2篇主控模块
  • 2篇流体
  • 2篇控制部件
  • 2篇扩展性
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇基板
  • 2篇机械抛光
  • 2篇机械手

机构

  • 14篇清华大学
  • 5篇天津华海清科...

作者

  • 14篇郭振宇
  • 6篇路新春
  • 6篇何永勇
  • 4篇许振杰
  • 4篇沈攀
  • 4篇雒建斌
  • 4篇裴召辉
  • 4篇王同庆
  • 3篇徐海滨
  • 3篇田芳馨
  • 3篇张莉瑶
  • 2篇李弘恺
  • 1篇张昕
  • 1篇孟永钢
  • 1篇刘宇宏
  • 1篇赵乾
  • 1篇赵德文
  • 1篇李昆

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2017
  • 3篇2016
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2010
  • 1篇2006
共 14 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
ULDCMP设备控制系统的研究开发
郭振宇
关键词：控制系统
化学机械抛光设备
本发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第一机械手；化学机械抛光机；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内第一...
路新春何永勇沈攀许振杰王同庆裴召辉徐海滨张莉瑶郭振宇雒建斌
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二进制优化相关研究
郭振宇
关键词：插桩反编译运行时优化
一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备
本实用新型公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模...
郭振宇赵德文李长坤
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化学机械抛光终点检测装置
本实用新型公开了一种化学机械抛光终点检测装置，包括：装置与化学机械抛光平台配合使用，化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，装置包括：平面反射镜；搭载平面反射镜的转轴，转轴用于调整平面反射镜的角度；光发射模块，用于发出激光...
王军星郭振宇沈攀雷殿波路新春
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CMP集成控制系统的通讯模块
本发明提出一种CMP集成控制系统的通讯模块，该CMP集成控制系统包括：主工控机、下位机组和二级工控机，该通讯模块用于实现主工控机与下位机组和二级工控机之间的通讯，其包括：OPC访问子模块和TCP/IP访问子模块，且两个子...
路新春李弘恺田芳馨郭振宇何永勇
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关于临界非线性方程组的基态解
20年前,关于Bose-Einstein凝聚（简称BEC）的预言在实验中被证实.此后,与BEC相关的问题更是受到了广泛关注.本文旨在考虑如下临界情形的非线性Schr?dinger方程组（简称NLSS）其中0≤t<2,0≤...
郭振宇
关键词：基态解NEHARI流形磁场
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化学机械抛光设备
本发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于输送晶圆的晶圆转移装置；第一机械手；化学机械抛光机；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第二机械手；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第...
路新春何永勇沈攀许振杰王同庆裴召辉徐海滨张莉瑶郭振宇雒建斌
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透镜组装置
本发明公开了一种透镜组装置，包括：透镜组装置用于Y型光纤端，透镜组装置包括：聚焦镜筒，聚焦镜筒内设置有凸透镜；遮挡镜筒；锁定环，在将遮挡镜筒套在聚焦镜筒上时，通过锁定环固定遮挡镜筒的位置；发散镜筒，发散镜筒内设置有凹透镜...
王军星郭振宇雷殿波冯巨震路新春沈攀
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芯片制造抛光装备与成套工艺
路新春王同庆赵德文雒建斌何永勇刘宇宏赵乾孟永钢沈攀许振杰裴召辉田芳馨郭振宇孙浩明李昆张昕康劲黄振伟
集成电路产业是支撑经济社会发展、保障国家安全的基础性、战略性和先导性产业。中国集成电路产业发展严重受制于集成电路制造装备，尤其是技术难度非常高的化学机械抛光(CMP)装备。 该项目历经十余年攻关，主要技术创新如下：1、...
关键词：
关键词：芯片
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